【真空腔體】PVD采用真空腔體的原因
來源:http://www.just-ok.com發(fā)布時間:2019-12-03
真空腔體-PVD是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

真空鍍膜中的濺射利用了輝光放電原理,因?yàn)橛须妶龅拇嬖冢?qū)動空氣中的電子和正離子運(yùn)動,電子向正極運(yùn)動,正離子向陰極運(yùn)動。離子與電子在運(yùn)動過程中動能量不斷增加,與空氣分子碰撞就會不斷地產(chǎn)生更多的離子與電子,就造成了輝光的持續(xù)放電。